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雷射掃描缺陷圖譜儀

簡(jiǎn)要描述:激光掃描缺陷成像儀是激光束感應(yīng)電流(LBIC)測(cè)試的升級(jí)版本。它利用波長(zhǎng)能量大于半導(dǎo)體帶隙的激光束照射半導(dǎo)體,產(chǎn)生電子空穴對(duì)。通過快速掃描樣品表面,獲得揭示內(nèi)部電流變化的圖像分布,從而分析各種缺陷分布。這有助于分析樣品制備的質(zhì)量并有助于工藝改進(jìn)。

  • 產(chǎn)品型號(hào):LSD4
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-04-02
  • 訪  問  量: 1306

詳細(xì)介紹

品牌Enlitech產(chǎn)地類別進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域能源價(jià)格區(qū)間面議
測(cè)量模式咨詢光焱科技專家

特征

掃描光生電流的分布

掃描光電壓分布

掃描開路電壓和短路電流的分布

分析表面污染

分析短路區(qū)域的 分布

識(shí)別和分析微裂紋區(qū)域

分析少數(shù)載子擴(kuò)散長(zhǎng)度的分布(選用功能)

應(yīng)用

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OPV光響應(yīng)電流分布圖

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分辨率為 50 µm 的非均勻性分析

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母線/柵極縱橫比檢測(cè)(橫截面分析)

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高重復(fù)性(6次重復(fù))

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規(guī)格

項(xiàng)目參數(shù)說明。
功能A。利用能量高于半導(dǎo)體帶隙的波長(zhǎng)激光束在半導(dǎo)體中產(chǎn)生電子空穴對(duì),探索耗盡區(qū)對(duì)內(nèi)部電流變化的影響,了解和分析各種缺陷分布,作為工藝改進(jìn)的方向。

b.能夠掃描樣品表面光生電流的分布。

C。能夠掃描樣品表面光電壓的分布。

d.能夠掃描開路電壓和短路電流的分布。

e.能夠分析表面污染。

F。能夠分析短路區(qū)域的分布。

G。能夠識(shí)別和分析微裂紋區(qū)域。

H。能夠分析少數(shù)載流子擴(kuò)散長(zhǎng)度的分布(可選)。
激勵(lì)源
405 ±10nm 激光
520 ±10nm 激光
635 ±10nm 激光
830 ±10nm 激光
掃描區(qū)域≧100mm×100mm
激光光斑尺寸接近TEM00模式點(diǎn)
測(cè)繪分辨率
A。掃描分辨率 ≤ 50 µm
b.掃描分辨率可通過軟件設(shè)置
測(cè)繪時(shí)間<4分鐘(100mm×100mm,分辨率50um)
方面60厘米*60厘米*100厘米
軟件A。 LBIC 3D 可視化
b. 2D 橫截面分析(電極縱橫比)
c.光電流響應(yīng)分布分析(與長(zhǎng)波長(zhǎng)激光源結(jié)合)
d.?dāng)?shù)據(jù)保存和導(dǎo)出功能






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